斜杠青年 | 2017-3-27
mura很讓人頭疼
今天我們一起來(lái)聊一聊Demura
先從補償開(kāi)始
OLED作為一種電流型發(fā)光器件已越來(lái)越多地被應用于高性能顯示中。由于它自發(fā)光的特性,與LCD相比,AMOLED具有高對比度、超輕薄、可彎曲等諸多優(yōu)點(diǎn)。
但是,亮度均勻性和殘像仍然是它目前面臨的兩個(gè)主要難題,要解決這兩個(gè)問(wèn)題,除了工藝的改善,就不得不提到補償技術(shù)。
補償方法可以分為內部補償和外部補償兩大類(lèi)。內部補償是指在像素內部利用TFT構建的子電路進(jìn)行補償的方法。外部補償是指通過(guò)外部的驅動(dòng)電路或設備感知像素的電學(xué)或光學(xué)特性然后進(jìn)行補償的方法。
為何要對OLED進(jìn)行補償?
介紹補償技術(shù)之前,首先我們來(lái)看看AMOLED為什么需要補償。下圖所示為一個(gè)簡(jiǎn)單的AMOLED像素電路,它由兩個(gè)薄膜晶體管(TFT)構建像素電路為OLED器件提供相應的電流。
與一般的非晶硅薄膜晶體管(amorphous-Si TFT)相比,LTPS TFT和Oxide TFT具有更高的遷移率和更穩定的特性,更適合應用于A(yíng)MOLED顯示中。
在中小尺寸應用中多采用低溫多晶硅薄膜晶體管(LTPS TFT),而在大尺寸應用中多采用氧化物薄膜晶體管(Oxide TFT)。
這是因為LTPS TFT遷移率更大,器件所占面積更小,更適合于高PPI的應用。
而Oxide TFT均勻性更好,工藝與a-Si兼容,更適合在高世代線(xiàn)上生產(chǎn)大尺寸AMOLED面板。
它們各有缺點(diǎn)。
由于晶化工藝的局限性,在大面積玻璃基板上制作的LTPS TFT,不同位置的TFT常常在諸如閾值電壓、遷移率等電學(xué)參數上具有非均勻性,這種非均勻性會(huì )轉化為OLED顯示器件的電流差異和亮度差異,并被人眼所感知,即mura現象。
Oxide TFT 雖然工藝的均勻性較好,但是與a-Si TFT類(lèi)似,在長(cháng)時(shí)間加壓和高溫下,其閾值電壓會(huì )出現漂移,由于顯示畫(huà)面不同,面板各部分TFT的閾值漂移量不同,會(huì )造成顯示亮度差異,由于這種差異與之前顯示的圖像有關(guān),因此常呈現為殘影現象,也就是通常所說(shuō)的殘像。
OLED補償分類(lèi)
既然這些問(wèn)題難以在工藝上克服,就必須要在設計上通過(guò)各種補償技術(shù)來(lái)解決。通常OLED的發(fā)光亮度和電流成正比,而電流是由TFT提供的,與TFT的特性參數相關(guān)。電流通常表示為:
I=kCox(Vgs-Vth)2(1+λVds)
k是和TFT遷移率有關(guān)的參數,Vgs和Vds又和電源電壓與OLED驅動(dòng)電壓有關(guān)。
可知影響電流大小的參數有TFT遷移率、閾值電壓,OLED的驅動(dòng)電壓以及電源電壓的大小。
補償技術(shù)的主要目的就是要消除這些因素的影響,最終讓所有像素的亮度達到理想值。
內部補償
下圖是一個(gè)典型的內部補償型電路,它由7個(gè)TFT和1個(gè)存儲電容組成,因此被簡(jiǎn)稱(chēng)為7T1C結構。
類(lèi)似還有6T1C,5T2C等很多類(lèi)似電路結構,經(jīng)過(guò)近幾年的不斷研究和發(fā)展,內部補償電路的拓撲結構幾乎已被窮盡,很難再有實(shí)用性的結構創(chuàng )新。
這種像素電路工作時(shí)一般都會(huì )有三個(gè)工作階段,會(huì )經(jīng)歷復位、補償、發(fā)光,即一個(gè)驅動(dòng)周期至少要干2到3件事,因此對電路驅動(dòng)能力和面板上的負載都有一定要求。
它的一般工作思路是在補償階段把TFT的閾值電壓Vth先儲存在它的柵源電壓Vgs內,在最后發(fā)光時(shí),是把Vgs-Vth轉化為電流,因為Vgs已經(jīng)含有了Vth,在轉化成電流時(shí)就把Vth的影響抵消了,從而實(shí)現了電流的一致性。
但是實(shí)際因為寄生參數和驅動(dòng)速度等影響,Vth并不能全部抵消,也即當Vth偏差超過(guò)一定范圍時(shí)(通常?Vth≥0.5V),電流的一致性就不能確保了,因此說(shuō)它的補償范圍是有限的。
外部補償之Demura
外部補償根據數據抽取方法的不同又可以分為光學(xué)抽取式和電學(xué)抽取式。光學(xué)抽取式是指將背板點(diǎn)亮后通過(guò)光學(xué)CCD照相的方法將亮度信號抽取出來(lái),電學(xué)抽取式是指通過(guò)驅動(dòng)芯片的感應電路將TFT和OLED的電學(xué)信號抽取出來(lái)。
兩種方法抽取的信號種類(lèi)不同,因此數據處理的方式也不同。光學(xué)抽取的方式具有結構簡(jiǎn)單,方法靈活的優(yōu)點(diǎn),因此在現階段被廣泛采用,即為我們平時(shí)所說(shuō)的Demura。
Mura一詞源于日本,原意指亮暗不均,后擴展至面板上任何人眼可識別的顏色差異。
對于面板廠(chǎng)而言,需要進(jìn)行質(zhì)量監控,因此在產(chǎn)線(xiàn)上均有技術(shù)員去檢測判定mura,但是這種方法很主觀(guān),不同人的判定有差異,給品質(zhì)管控帶來(lái)很大的困擾。
因此技術(shù)人員開(kāi)發(fā)出AOI(automatic optical inspection)設備進(jìn)行mura的檢測,以及檢測到Mura后進(jìn)行補償消除Mura,即Demura,本文將重點(diǎn)介紹Demura。
Demura一般步驟
Drive IC點(diǎn)亮面板(TV/mobile/Tablet),并顯示數個(gè)畫(huà)面(一般是灰階或者RGB)。
1使用高分辨率和高精度的CCD照相機拍攝上述畫(huà)面。
2根據相機采集數據分析pixel顏色分布特征,并根據相關(guān)算法識別出Mura。
3根據mura數據及相應的Demura補償算法產(chǎn)生Demura數據。
4將Demura數據燒錄到Flash ROM中,重新拍攝補償后畫(huà)面,確認Mura已消除。
5檢測畫(huà)面
點(diǎn)亮面板后需要被檢測的畫(huà)面根據不同面板廠(chǎng)的要求,一般是不同的。
有些面板廠(chǎng)的Demura只對亮度差異進(jìn)行補償,不對色彩差異進(jìn)行補償,這種Luminance Demura一般只需要檢測灰階畫(huà)面,而且由于不同灰階時(shí)呈現的Mura不同,一般會(huì )檢測高中低灰階的Mura,最后Demura數據平均,當然具體的設定不同面板廠(chǎng)會(huì )根據自己的實(shí)際需求進(jìn)行選擇。
有些面板廠(chǎng)進(jìn)行的是比較全面的Color Demura,即不僅對亮度同時(shí)對色度差異也進(jìn)行補償。
此類(lèi)型的color Demura的檢測畫(huà)面,有些采用灰階畫(huà)面,有些采用RGBW畫(huà)面,不同面板廠(chǎng)根據技術(shù)和需求選擇不同。
相機拍照
為了達到代替技術(shù)員的目標,以下兩點(diǎn)時(shí)必須的:
1、相機符合CIE1931人眼匹配函數,
2、相機能達到人眼的分辨率。
拍攝檢測畫(huà)面時(shí)一般采用高精度高分別率的CCD相機,相機分辨率的選擇取決于被檢測面板的分辨率,大小,拍攝距離以及Demura補償的精度。
為了達到最佳的檢測和補償效果。相機最終得到的數據一定要是XYZ,且后續的計算均是基于相機拍照得到的XYZ數據。
Mura識別
得到面板XYZ的分布數據后就可以根據不同的算法檢測不同的Mura,關(guān)于Mura檢測目前有二個(gè)國際標準:
1.German Flat Panel Display Forum
2.IDMS(former VESA)
當然Mura檢測異常復雜,各個(gè)廠(chǎng)家都有開(kāi)發(fā)自己的Mura檢測算法,admesy也在做相關(guān)努力。Mura識別的內容太多,本文舉幾個(gè)簡(jiǎn)單的例子作為說(shuō)明。
上圖是科學(xué)家做實(shí)驗得出的人眼對比敏感性函數,黃色曲線(xiàn)以上部分,人眼基本無(wú)法識別出Mura,可以看出兩個(gè)因素可以明顯影響對Mura嚴重程度的判定:
1、亮暗對比程度的差異
2、亮暗差異的周期分布
Mura檢測之傅里葉變換
任意一個(gè)圖像均可以分解為不同頻率,強度,相位,方位的sin函數。
Mura檢測之邊緣識別
經(jīng)過(guò)傅里葉變換后,高頻部分可以用來(lái)識別圖像邊緣。
Mura檢測之邊緣識別
經(jīng)過(guò)對比增強后,原本很微弱不易識別的Mura可以明顯被識別,當然還有很多其它的方法,例如比較Pixel與周?chē)鷓ixel的亮度差異,計算亮度梯度,計算色差等方法。
Demura算法
為了更好的理解Demura補償算法,可以觀(guān)看以下視頻和圖片:可以看出Demura算法原理其實(shí)很簡(jiǎn)單:
只是把它認為偏暗的區域變亮,或者偏亮的區域變暗,或者將有色偏的區域消除,最終的目標是使得面板不同區域有大體相同的顏色,當然需要平滑的算法來(lái)消除Mura邊界。
燒錄
OLED Demura數據確定后,就需要將其燒錄到EEPROM中以實(shí)現補償效果,最后再拍照確認Mura已消除,Demura數據占用ROM空間的大小取決于屏幕分辨率以及補償精度(pixel級,3*3,5*5…..)。
Demura 前:
Demura 后:
OLED Demura總結
OLED Demura技術(shù)目前三星和LG處于的位置,但是Demura技術(shù)很復雜,均不能算成熟,國內各個(gè)廠(chǎng)家也在積極開(kāi)發(fā)子自己的Demura技術(shù),希望能夠提升良率。
Demura 難點(diǎn)總結如下:
1、如何使用CCD相機快速準確的抓取每個(gè)pixel的顏色?
2、如何識別不同類(lèi)型的Mura,有些Mura正視不可見(jiàn),側視可見(jiàn)?
3、如何進(jìn)行快速高效的補償,以免速度太慢對產(chǎn)能造成損失?
以上問(wèn)題,期待大家的共同努力,早日突破解決。
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